특허 (Patents)

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듀얼 모드 암호화 표면 및 이의 제조 방법 및 이를 포함하는 디스플레이 장치

지식재산권구분 특허 출원/등록번호 102150883
출원/등록 등록 출원/등록일 20200827
국내/국제 국내
국가명 Korea, Republic of
출원/등록기관 포항공과대학교 산학협력단
발명자명 노준석,윤관호,이다솔
과제명 증강/가상현실 구현을 위한 메타표면 기반 평면 렌즈 및 복소 홀로그램
연구기관 포항공과대학교
연구책임자 노준석
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