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나노마이크로기반 회절광학소자 및 이의 형성방법

지식재산권구분 특허 출원/등록번호 101930421
출원/등록 등록 출원/등록일 20181212
국내/국제 국내
국가명 Korea, Republic of
출원/등록기관 한국기계연구원
발명자명 정준호;전소희;황순형;정주연;이지혜;최대근;최준혁
과제명 극한물성시스템 제조 플랫폼기술
연구기관 한국기계연구원
연구책임자 정준호
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